导读:
对于抛光机的操作最重要的是要去获得最大的抛光速率,以至于来快速去除磨光时产生的一个损伤层。同时也要砸抛光损伤层不会影响最终观察到的组织,前面是要求使用比较粗的磨料以来保证大抛光速率来去除磨光时的损伤层,但是抛光损伤层也是比较深的,然而对于后者则是要求使用比较细的材料,然后使抛光损伤层较浅抛光率低。
然而对于这个矛盾我们最好是分两个阶段去解决。对于粗抛光它主要是去除磨光的损伤层,对于这一阶段应该具有最大的抛光速率,然而对于粗抛形成的表层损伤是次要的考虑,不过也应当尽可能的小;其次是精抛或者是终抛它的目的是去除粗抛产生的表层损伤,然后使抛光损伤减少到最小。在抛光机抛光的时候,试样磨面和抛光盘应该绝对平行并且均匀的压在抛光盘上。
并且要注意防止试样飞或者是因压力太大产生新磨痕。同时还应该让试样自转并沿转盘半径方向来回移动,以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液,使抛光织物保持一定湿度。湿度太大会减弱抛光的磨痕作用,使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象;湿度太小时,由于摩擦生热会使试样升温,润滑作用减小,磨面失去光泽,甚至出现黑斑,轻合金则会抛伤表面。为了达到粗抛的目的,要求转盘转速较低,最好不要超过600r/min;抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些,因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑,但黯淡无光,在显微镜下观察有均匀细致的磨痕,有待精抛消除。
精抛时转盘速度可适当提高,抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后磨面明亮如镜,在显微镜明视场条件下看不到划痕,但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。抛光机抛光质量的好坏严重影响试样的组织结构,已逐步引起有关专家的重视。国内外在抛光机的性能上作了大量的研究工作,研究出不少新机型、新一代的抛光设备,正由原来的手动操作发展成为各种各样的半自动及全自动抛光机。
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